Techological peculiarities of nanocomposite SiOx and SiO2(Si) films obtaining by LP CVD method

Назва конференції: 
XIII International Conference “Physics and technology of thin films and nanosystems”
Назва конференції (тільки ім'я): 
International Conference “Physics and technology of thin films and nanosystems”
Номер конференції: 
XIII
Країна: 
Україна
Місто: 
Івано-Франківськ
Сторінки: 
-
Кількість сторінок: 
0
Вихідні данні тез: 
Techological peculiarities of nanocomposite SiOx and SiO2(Si) films obtaining by LP CVD method // Materials XIII Int. Conf. “Physics and technology of thin films and nanosystems”, Ivano-Frankivsk
Рік: 
2011
Автор(и): 
A. Kizjak, А. Evtukh, Yu. Pedchenko.
Мова: 
Англійська
Назва підрозділу: 
Кафедра нанофізики конденсованих середовищ
ІНСТИТУТ ВИСОКИХ ТЕХНОЛОГІЙ Матеріали дозволено використовувати на умовах GNU FDL без незмінюваних секцій та Creative Commons Attribution/Share-Alike
Дизайн: Інститут високих технологій
Ivan Ivanov